Intel, uzun müddettir üzerinde çalıştığı 18A üretim teknolojisinde kritik bir eşiği geçtiğini ve 2 nanometre sınıfındaki birinci seri üretim sürecini hayata geçiren üretici pozisyonuna geldiğini duyurdu.

Intel, 2nm üretim sürecinde öne geçti

Şirket, Arizona’da bulunan Fab 52 tesisinde Panther Lake işlemcilerinin yüksek hacimli üretimine resmen başladı. Bu gelişme ile Intel, 18A sürecini rakip dökümhaneler olan TSMC’nin N2 düğümü ve Samsung’un SF2 düğümünden evvel seri üretime alarak kıymetli bir vakit avantajı elde etti.

Sektör analistleri, Intel’in yakaladığı bu vakit farkının kalıcı olup olmayacağını üretim verimliliği ve maliyet denetimi üzere kritik faktörlerin belirleyeceğini belirtiyor. Intel şu anda kusur oranlarını düşürmüş durumda, lakin güç, performans ve frekans amaçlarında istikrarlı sonuçlar elde edilip edilmediği konusunda şimdi resmi bir açıklama gelmedi.

Öte yandan, teknik bir dönüm noktası olmasına karşın TSMC N2 sürecinin Intel 18A’ya kıyasla hala daha yüksek transistör yoğunluğuna sahip olduğunu hatırlatmak gerekiyor.

18A üretim süreci, iki temel teknolojik yeniliği beraberinde getiriyor: RibbonFET ve PowerVia. RibbonFET, klâsik FinFET yapısını yatay silikon şeritlerle değiştirerek elektrostatik denetimi artırıyor ve sızıntıyı azaltıyor.

Intel, bu teknoloji sayesinde %20’ye varan güç tasarrufu sağladığını ve geçiş müddetini kısalttığını belirtiyor. PowerVia ise güç iletimini yonganın art yüzeyine taşıyarak sinyal yollarını sadeleştiriyor ve yüksek frekanslarda tansiyon düşüşünü azaltıyor.

Peki siz bu mevzu hakkında ne düşünüyorsunuz? Görüşlerinizi aşağıdaki yorumlar kısmından bizimle paylaşabilirsiniz.